HTL-350光刻烤胶机(晶圆烤胶机)产品说明：

1.采用NanoHeat世界一级热能技术驱动，超红外线辐射、无机械发热组件，可干烧，无电磁场干扰和危害，

2.板表面温度均匀，温度100℃以内，精度0.1~0.3°C，200℃以内，精度%0.5℃，

3.LED显示，可设定预约温度，内置温度探头和外部温度探头，可自由切换。

4.超温报警功能，设定温度计时功能，实验更方便

5.阳极氧化、纳米陶瓷黑色喷砂，热射率高，无缝加热板面，平整度高，耐酸，耐碱，耐腐蚀，无交叉污染，清洁容易。 

6.可选带有保温盖，整个加热区形成一个保温腔，大大提高温度均匀度，也起到防尘作用；

7.机器可选择带有负压功能，表面带有若干吸附孔，可使被加热材料与加热板表面紧密贴合，起到受热均匀效果；

8.免受磁干扰和危害：使其成为硅晶片晶圆研发，医疗和实验室使用的好选择

9.广泛用于工业，电子半导体，农业，化学，制药，生物，新材料备制等实验加热。

HTL-350光刻烤胶机(晶圆烤胶机)产品特性：

1.增强红外线加热技术，

2.具有真空负压功能，表面设有若干吸附孔，可使被加热材料与表面紧密贴合，从而达到受热均匀效果。

3.带有加热保温盖，温度可设置，整个加热区形成一个保温腔，大大提高温度均匀度，也起到防尘作用；

4.自动进气功能,过温保护功能、超温报警功能，计时功能，已获得CE认证证书、实验更安全、方便！！
 

HTL-350光刻烤胶机(晶圆烤胶机)技术参数：

1.加热输出功率：2000W

2.板面温控：室温～350℃

3.温控模式：LED数显温度自由设定

4.温度测试：内置温控与外置温控可切换

5.温度控制精度：±0.1

6.加热区：350×350mm（尺寸可定制）

7.功能选项：真空吸附功能：无极调节真空度，使样品受热更均匀；

8.顶针功能：直径3mm,高度30mm任意设定高度，方便取片，样品无接触，避免污染；

9.限位功能：适合不同大小尺寸晶圆，防止样品偏移，起到固定作用；

10.程序分段控制系统：时间设定，功率输出比设定，升温曲线，通信等

11.产品外形尺寸：420×460×250mm

12.板面材质：纳米陶瓷喷砂加热面板